講演情報
[19p-P02-1]実デバイス内部の希薄濃度試料に対するXAFS計測法の開発
〇宇留賀 朋哉1、金子 拓真1 (1.高輝度セ)
キーワード：
XAFS,X線,放射光
X線吸収微細構造分光（XAFS）法は、結晶・非結晶に関わらず試料内の測定目的元素の化学状態や局所構造情報を得ることができる強力な分析手法である。本研究では、これまでXAFS計測が困難であったX線吸収量が高い実デバイス部材内部に設置された希薄濃度試料に対して、十分な質をもつスペクトルを得ることができるXAFS計測法の開発を行い、テスト計測に成功した。本計測法の概要とテスト計測結果について報告する。