講演情報
[20a-A202-3]RFマグネトロンスパッタリング法によるMoS2膜結晶性の下地依存性
〇松永 尚樹1、今井 慎也1、若林 整1 (1.東工大)
キーワード：
遷移金属ダイカルコゲナイド,RFマグネトロンスパッタリング,下地
遷移金属ダイカルコゲナイド (TMDC) の大面積均一成膜が求められる工業応用において、RFマグネトロンスパッタリング法は有力な成膜手法である。MoS2膜の光学特性および電気特性は、成膜の下地に影響を受けることが報告されている。本研究では、下地材料の厚さと種類に焦点を当て、スパッタMoS2膜の結晶性にどのような影響を与えるかを評価した。