講演情報
[20a-C401-9]ALD法によるAl2O3薄膜の熱水処理で形成したナノ構造のプロセス制御
〇禹 泰圭1、辻 祐樹1、林 翔平1、伊佐早 祐大1、森 智衆1、板谷 太郎2、前田 讓治1、天野 健2 (1.東理大 創域理工、2.産総研)
キーワード：
原子層堆積法,ナノ構造,熱水処理
原子層堆積法で成膜されたAl2O3薄膜は、熱水処理を施すことでナノ構造が形成される。このナノ構造による表面反射の抑制や、金属との複合構造による放熱特性の向上が実証されている。本発表では、ALD法による成膜と熱水処理の条件を変えることにより、ナノ構造形成の制御を試みたので報告する。