[20p-A201-1~16] 3.14 シリコンフォトニクス・集積フォトニクス（旧3.15）

15:00 〜 15:15

[20p-A201-6] UVナノインプリントリソグラフィを用いた大面積集積フォトニクスプロセスの開発

〇雨宮 智宏¹、岡田 祥¹、高橋 直樹¹、佐々木 龍耶¹、堀川 剛¹、渥美 裕樹²、小田 悠貴³、原 悠太³、野田 真司³、山本 宏³、Thomas Uhrmann³、Andrea Kneidinger³、森 莉紗子⁴、藤井 恭⁴、浅井 隆宏⁴、塩田 大⁴、西山 伸彦¹ (1.東工大、2.産総研、3.EVG、4.東京応化)

キーワード：

光集積回路,シリコンフォトニクス,UVナノインプリントリソグラフィ