[20p-A310-1~12] CS.1 2.3 加速器質量分析・加速器ビーム分析、7.4 イオンビーム一般のコードシェアセッション

14:30 〜 14:45奨励賞エントリー

[20p-A310-5] クラスターイオンビーム照射による高分子脱離プロセスの検討

〇水谷 優里¹、越下 裕貴²、吉澤 迅風²、瀬木 利夫³、松尾 二郎³、藤井 麻樹子^1,2 (1.横浜国大理工、2.横浜国大院環情、3.京大院工)

キーワード：

クラスターイオンビーム,二次イオン質量分析法