講演情報
[20p-P01-3]PAN 添加溶液を用いた高感度 MA3Bi2I9 膜の作製
〇中野 佑宇唯1、池之上 卓己1、三宅 正男1、平藤 哲司1 (1.京大院エネ科)
キーワード:
ペロブスカイト,X線検出器
MA3Bi2I9 は、高い X 線吸収係数と優れた電荷移動特性を有することから、次世代の X 線撮像素子の検出母材に適した材料として注目されている。当研究室ではこれまでにミストデポジション法を用いて MA3Bi2I9 の厚膜 (110 µm) の作製や 300 cm2 の大面積膜の作製を達成している。また、PEAI 添加による膜の高抵抗化により単結晶に匹敵する比抵抗を達成した。今回、我々は PAN (polyacrylonitrile) を前駆体溶液に混合することで欠陥のパッシベーション効果による高感度化を目指した。