講演情報

[20p-P06-4]静電スプレー法の堆積条件が硫化スズ薄膜の組成比や配向性に与える影響

〇堀 孝太1、友野 恵介1、大久保 慶人1、杉山 睦1,2 (1.東理大 創域理工、2.東理大 総研)

キーワード:

硫化スズ(SnS),溶液法,組成比制御

硫化スズ(SnS)太陽電池の変換効率向上のため、溶液法の1つである静電スプレー法(Electrostatic Spray Deposition:ESD)を使用し、SnS薄膜の堆積を行った。ESDは高電圧を印加し液滴を微細化して噴霧を行う堆積法である。堆積条件の変化により異相の抑制や配向性の制御が期待される。本研究では、ESD堆積したSnS薄膜の異相の抑制や配向性の制御を試みた。