[21a-A308-1~10] CS.6 3.10 フォトニック構造・現象、 3.14 シリコンフォトニクス・集積フォトニクスのコードシェアセッション

10:15 〜 10:30

[21a-A308-5] フォトニック結晶導波路上へのGe₂Sb₂Te₅パターニングによる共振器形成

〇上村 高広^1,2、千葉 永^1,2、養田 大騎^1,2、森竹 勇斗¹、田中 祐輔²、倉持 栄一^2,3、小野 真証^2,3、納富 雅也^1,2,3 (1.東工大理、2.NTT物性研、3.NTT NPC)

キーワード：

フォトニック結晶,共振器形成,相変化材料

産業界において広く使用される相変化材料であるGe₂Sb₂Te₅(GST)は、常温でアモルファス相と結晶相の2つの安定相を持ち、両相で大きな屈折率コントラストを持つ。以前の講演において、2次元点欠陥型フォトニック結晶共振器への数百nmスケールでのGST装荷による、共振波長および共振Q値のチューニングについて報告した。今回、元々共振器の存在しないフォトニック結晶導波路上へのGST装荷による共振器形成を達成したため、報告する。