講演情報
[21a-B202-4]Pr添加分子線エピタキシー法による立方晶 ReNx薄膜超伝導体の合成
〇瀧口 耕介1、クロッケンバーガー ヨシハル1、谷保 芳孝1、山本 秀樹1 (1.NTT物性研)
キーワード：
超伝導体,窒化物,分子線エピタキシー
分子線エピタキシー法による立方晶ReNx超伝導薄膜の結晶成長に関して報告する。立方晶ReNxは現状合成の報告例は少なく、超伝導性が示唆されているもののマイスナー効果とゼロ抵抗の両方を観測した例はなかった。本研究ではランタノイドを含んだ複窒化物探索の中で、Prの1.5%の添加によってこの立方晶ReNxが安定化し、マイスナー効果とゼロ抵抗の観測に成功した。