講演情報

[21a-B203-11]Ge空孔量制御したエピタキシャルGeTe薄膜/Siの熱電特性

〇石部 貴史1,2、成瀬 延康3、目良 裕3、山下 雄一郎4、大石 佑治5、中村 芳明1,2 (1.阪大院基礎工、2.阪大OTRI、3.滋賀医科大、4.産総研、5.阪大院工)

キーワード:

熱電材料,カルコゲナイド,熱伝導率