講演情報
[21a-P04-6]金属フタロシアニンを吸着したSiC再構成表面の構造観察
〇白石 凜1、碇 智徳1、内藤 正路2 (1.宇部高専、2.九工大院工)
キーワード：
炭化ケイ素,フタロシアニン,表面構造
CuPcとCoPcを吸着した4H-SiC(0001)再構成表面での電子状態と構造を観察した。電子状態を準安定原子誘起電子分光法(MIES)により観測し、表面構造は低速電子線回折(LEED)及び走査型トンネル顕微鏡(STM)により観察した。CuPc/SiC表面でのMIES観測結果では、蒸着量の増加に伴い、フタロシアニン分子の吸着形態の変化を観測した。本研究では、フタロシアニン分子の吸着初期から薄膜までの蒸着量を変化させ、吸着形態と表面構造との関係を調べた。