講演情報
[21p-A307-16]電子強誘電体 YbFe2O4 薄膜の相形成におよぼす PLD 照射レーザーの影響 II
〇(D)嶋本 健人1、葉山 琢充1、市川 颯大1、吉村 武1、藤村 紀文1 (1.大阪公立大工)
キーワード：
パルスレーザー堆積法,強相関電子系,マルチフェロイック
YbFe2O4は、結晶内で三角格子を構成する同数のFe2+とFe3+による電荷のフラストレーションに起因して、~330K 以下で電子強誘電性、~250K 程度でフェリ磁性が発現するマルチフェロイック物質である。PLD法において、プラズマプルームの発光スペクトルをin-situ測定し、レーザーエネルギーや照射面積の変化によって原子状活性種供給量を制御してYbFe2O4エピタキシャル薄膜の成長過程を制御する。本発表では、製膜過程における気相状態がYbFe2O4薄膜形成におよぼす影響を検討した結果について報告する。