[21p-A307-1~23] 6.3 酸化物エレクトロニクス

15:15 〜 15:30

[21p-A307-9] 適応的事前平均を用いたベイズ最適化によるストイキオメトリックなSrTiO₃薄膜の成長

〇若林 勇希¹、大塚 琢馬²、Yoshiharu Krockenberger¹、澤田 宏²、谷保 芳孝¹、山本 秀樹¹ (1.NTT 物性研、2.NTT CS研)

キーワード：

ベイズ最適化,ペロブスカイト,分子線エピタキシー