講演情報
[21p-D903-6]界面磁気結合を利用したPd/Ni薄膜ヘテロ構造の磁気特性制御
〇(M1)筒井 健三郎1、小野 広喜1、山本 航平3、石山 修3、横山 利彦3、水口 将輝1,2、宮町 俊生1,2 (1.名大院工、2.名大未来研、3.分子研)
キーワード：
界面磁気結合,薄膜,パラジウム
水素吸蔵金属として知られるPdについて、Pd/Ni薄膜ヘテロ構造を作製し、接合界面における磁気結合を利用することによってPdに磁性を誘起させ、そのd電子状態を制御することを試みた。表面構造と電子磁気状態を測定した結果、Pd積層に伴う格子定数の変化によってNi薄膜の容易磁化方向が面直方向から面内方向へシフトしたこと、また、Ni薄膜との界面磁気結合によってPd薄膜が磁化したことが分かった。