[21p-P09-1~30] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[21p-P09-8] ZnOおよびScAlMgO₄ステップ基板上への(ZnO)_x(InN)_1-x膜の室温エピタキシャル成長

〇成重 椋太¹、中野 祐太朗¹、山下 尚人¹、鎌滝 晋礼¹、奥村 賢直¹、木山 治樹¹、古閑 一憲¹、白谷 正治¹、薮田 久人¹、板垣 奈穂¹ (1.九大シス情)

キーワード：

ZION,ZnO,スパッタリング