[22a-A501-1~3] CS.10 6.5 表面物理・真空、7.5 原子・分子線およびビーム関連新技術のコードシェアセッション

10:30 〜 10:45

[22a-A501-1] 超音速分子線を用いたCu₃Pd(111)表面上でのエチレン分子反応

〇安藤 雅晃¹、村瀬 菜摘¹、津田 泰孝²、山田 剛司¹、吉越 章隆²、岡田 美智雄³ (1.大阪大院理、2.原子力機構、3.大阪大放射線機構)

キーワード：

グラフェン生成過程,放射光X線光電子分光,超音速分子線

金属は腐食によって、本来の性質が失われることがあるため、その表面上にグラフェンを生成して阻止する研究が行われてきた。本研究では、エチレン超音速分子線と放射光X線光電子分光法(SR-XPS)により、Cu₃Pd(111)表面上でのグラフェン生成過程を明らかにした。分子線照射で得られた光電子スペクトルによれば、照射量に応じてピークの成長が見られた。発表ではエチレンの吸着状態や反応性について議論する予定である。