講演情報
[22p-C501-12]人工積層したMoS2薄膜の面直方向電荷輸送・熱輸送のアニーリング効果
〇上治 寛1、チョウ カイヤオ1、中村 颯太1、齋藤 滋輝1、西留 比呂幸1、八木 貴志2、蓬田 陽平1、宮田 耕充1、柳 和宏1 (1.都立大理、2.産総研)
キーワード：
遷移金属ダイカルコゲナイド,時間領域サーモリフレクタンス,人工積層
人工的に積層させた遷移金属ダイカルコゲナイド(MX2)薄膜の面直方向の熱伝導は空気に近いほどの熱絶縁性を示す。熱電変換の観点からは非常に興味深いが、面直方向における電気伝導、更には熱起電力との相関は殆ど議論されていない。本研究では、輸送特性の相関の端緒を得ることを目的として、特に、MX2人工積層膜を真空アニールすることで界面カップリングを系統的に変化させた過程での熱・電気輸送特性を調べた。