[22p-P03-1~9] 15.5 IV族結晶，IV-IV族混晶

[22p-P03-4] レーザーマーカを用いたGe-on-Insulator(111)の作製と歪みSiGe再成長

〇櫻井 優一¹、高松 海夕¹、佐野 汐音¹、金澤 伶奈¹、菊岡 柊也¹、井上 貴裕¹、澤野 憲太郎¹ (1.東京都市大学)

キーワード：

絶縁膜上のゲルマニウム,シリコンゲルマニウム