[23a-B205-1~11] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

11:45 〜 12:00

[23a-B205-11] スパッタ堆積法によるSi基板上へのMnSi_1.75-x膜の作製

〇久保田 啓聖¹、坂根 駿也¹、鵜殿 治彦¹ (1.茨城大)

キーワード：

シリサイド半導体