[23p-A602-1~16] 15.5 IV族結晶，IV-IV族混晶

16:30 〜 16:45

[23p-A602-15] SiO₂上へのNiシリサイドナノシート形成におけるH₂O₂溶液処理の効果

〇木村 圭佑¹、田岡 紀之²、大田 晃生³、牧原 克典¹、宮﨑 誠一¹ (1.名大院工、2.愛工大、3.福岡大理)

キーワード：

ニッケルシリサイド,ナノシート