2024年第71回応用物理学会春季学術講演会
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一般セッション(ポスター講演)13 半導体：13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[24p-P13-1~3]13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2024年3月24日(日) 16:00 〜 18:00
P13 (9号館)
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[24p-P13-1]Ni超薄膜へのSiH4照射によるシリサイド化反応制御

〇谷田 駿1、木村 圭祐1、田岡 紀之2、牧原 克典1、宮﨑 誠一1 (1.名大院工、2.愛工大)
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[24p-P13-2]自己組織化エレクトレットを用いた MEMS アクチュエータの プルイン特性に関する検討

〇(M2)井上 岳1、井口 龍司1、田中 有弥2、山根 大輔1 (1.立命大大学院、2.群馬大)
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[24p-P13-3]電気二重層エレクトレットを用いた非接触型両面式エネルギーハーベスティングに関する検討

〇岩川 竜太1、野田 圭吾1、村上 新拓1、三輪 一元2、小野 新平2、山根 大輔1 (1.立命館大学、2.電力中央研究所)
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