[10a-N404-1~8] 11.3 臨界電流，超伝導パワー応用

9:30 〜 9:45

[10a-N404-1] 高速成膜したYBCOナノコンポジット膜の磁場中臨界電流密度制御

〇神道 凌也¹、堀出 朋哉¹、池本 直生²、石丸 学²、吉田 隆¹ (1.名大工、2.九工大)

キーワード：

高温超伝導、人工ピンニングセンター、被覆線材

REBCO薄膜の高成膜速度化と高磁場特性向上を両立するため、PLD法によりBMOを添加したYBCO薄膜を10Hzと100Hzで成膜し、成膜速度と臨界電流密度（J_C）の関係を評価した。さらに、Nb添加によるナノロッド構造制御も検討した。BMO添加YBCO薄膜では成膜速度の上昇に伴いJ_Cの劣化が見られた。一方、Nb添加により20K、9TにおいてJ_Cが向上し、ピンニング強度の改善が示唆された。