講演情報

[7p-N105-7]フォノンモンテカルロ計算を用いたSiGe界面を有するSi熱電薄膜におけるフォノン輸送の考察

〇小田島 綾華1,2、柳澤 亮人1、Wang Weitao1、Anufriev Roman1、澤野 憲太郎2、野村 政宏1 (1.東大生研、2.東京都市大)

キーワード:

熱電変換、シリコンゲルマニウム、結晶成長