講演情報
[8a-N206-1][第58回講演奨励賞受賞記念講演] 溶融金属中二体間相互作用力の外場応答分析および測定環境拡張
〇西脇 悠人1、宇都宮 徹1、天野 健一2、一井 崇1 (1.京大院工、2.名城大農)
キーワード：
溶融金属、粒子分散、原子間力顕微鏡
溶融金属中における二体間相互作用力を，外部電場印加・温度可変（≤150 ℃）環境下でAFMによって分析した．W探針-mica基板間およびW探針-SiO2/Si基板間には，溶融Ga中において強い引力相互作用が働く．測定された温度応答は，遅延効果を考慮しないLifshitz理論から導かれるvan der Waals (vdW) 力の応答と一致した．これに対して電場応答は通常の線形vdW力では説明されず，誘電体の非線形応答 (飽和分極) が支配的な場合の非線形統計力学モデルと対応した．