講演情報
[8p-N306-11]銅(Ⅱ)フタロシアニンの分子配向が金属との界面電子準位接続に与える影響
〇坂 海斗1、古川 侑生1、吉田 弘幸1,2 (1.千葉大院工、2.千葉大MCRC)
キーワード：
仕事関数、分子配向、ケルビンプローブ
金属と有機半導体の界面電子準位接続は電荷注入特性に影響を与える。本研究では、仕事関数の大きく異なる基板上のCuPcの仕事関数の膜厚依存をKP法で3000 nm以上の厚膜範囲で測定した。300nmから2500 nmの間で仕事関数が変化した。XRD測定から、300 nmでedge-on、2500 nmでface-on配向を取ることがわかった。すなわち、CuPcの分子配向が電子準位接続に影響を与える。