セッション詳細
[8a-N307-1~9]12.1 作製・構造制御
2025年9月8日(月) 9:00 〜 11:30
N307 (共通講義棟北)
硯里 善幸(山形大)、 横倉 聖也(北大)
[8a-N307-3]Influence of O2 on the Fabrication of Ultra-High-Barrier SiNX Films via Solution Processing
〇Luyang Song1, He Sun1, Yoshiyuki Suzuri1 (1.Yamagata Univ.)
[8a-N307-4]液晶性C8-BTBT-NHCOC14H29薄膜の異なる液晶相における先行膜成長挙動の観察
〇(M1)祖父江 駿也1、三部 宏平1、相澤 啓太1、庄司 衛太1、武田 貴志2、出倉 駿1,3、佐藤 鉄1,3、芥川 智行1,3、丸山 伸伍1、神永 健一1、松本 祐司1 (1.東北大院工、2.信州大院総合理工、3.東北大多元研)
[8a-N307-7]正孔輸送層にTi3C2Tx MXeneを用いた有機フォトダイオードの開発
〇(D)佐々木 光生1、石井 良美2、大井 寛崇2、横田 知之1 (1.東大院、2.日本材料技研)