2026年第73回応用物理学会春季学術講演会

最先端半導体デバイス製造で重要性が高まる原子層成長（ALD）・原子層エッチング（ALE）をはじめとする原子層プロセス（ALP）を，解析と応用の両面から俯瞰するシンポジウムです。午前は英語セッションとして国内外の研究者による招待講演6件を実施。高温選択ALD，3Dデバイス指向の新パラダイム，超高アスペクト比構造での解析，in situ診断，プラズマALEまで，「作る・削る・測る」を議論します。

午後は2件の英語一般講演に続き，日本語セッションとして招待講演3件と一般講演8件を行います。招待講演では，先端3DナノデバイスにおけるALPの位置づけ，高純度ガリウムプリカーサー開発，量子応用を見据えた原子スケールプロセシングなど，ALPの将来像を提示します。一般講演では，低ダメージALE，選択成長，高スループット化に加え，KMCやNNP等による反応解析とプロセス最適化などの成果が集結します。