一般社団法人レーザー学会学術講演会第46回年次大会
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C: 高強度・高エネルギー レーザー応用口頭講演

[C01-13a-IV]受賞講演、EUV光源、アト秒科学

2026年1月13日(火) 9:30 〜 10:30
第IV会場(B2会議室)
座長:福田 祐仁(量子科学技術研究開発機構)
9:30 〜 9:45

[C01-13a-IV-01]【産業賞受賞記念講演】マスクパターン検査装置用高輝度EUV光源へのレーザーの応用

*谷 直亮1、林田 慧太朗1、Hallbaeck Karl Joel1、小市 真樹1、宮井 博基1 (1. レーザーテック株式会社)
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9:45 〜 10:00

[C01-13a-IV-02]中赤外レーザー駆動極端紫外光源の最適化に向けた光源パラメータの検討

*田中 のぞみ1、山本 祐1、西原 功修1,2、砂原 淳3,1、城崎 知至4,1、佐々木 明1,5、藤岡 慎介1,6、吉村 政志1 (1. 阪大レーザー研、2. 大阪公立大、3. パデュー大、4. 広島大、5. 量研機構、6. 核融合研)
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10:00 〜 10:15

[C01-13a-IV-03]【論文発表賞応募演題】Vacuum ultraviolet cleaning mode for mitigating tin contamination in extreme ultraviolet lithography sources

*ZIJUN ZHONG1, Nozomi Tanaka1, James Edward Hernandez1, Yulin Gong1, Katsunobu Nishihara1,2, Atsushi Sunahara3,1, Tomoyuki Johzaki4,1, Kyung Sik Kang5, Shinji Ueyama6, Shinsuke Fujioka1,7 (1. Institute of Laser Engineering, The University of Osaka, 2. Osaka Metropolitan University, 3. Purdue University, 4. Hiroshima University, 5. Semiconductor R&D Center, Samsung Electronics Co. Ltd., 6. Samsung Device Solutions R&D Japan, Samsung Japan Corporation, 7. National Institute for Fusion Science)
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10:15 〜 10:30

[C01-13a-IV-04]極限集光による高強度孤立アト秒光子場の生成

*今坂 光太郎1、神田 夏輝1、Dong Dianhong1、Xue Bing1、江川 悟2,3、細畠 拓也2、山形 豊2、高橋 栄治1 (1. 理化学研究所 光量子工学研究センター 超高速コヒーレント軟Ｘ線光学研究チーム、2. 理化学研究所 光量子工学研究センター 先端光学素子開発チーム、3. 東京大学 先端科学技術研究センター)
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