下記の通りランチョンでテクニカルセミナーを開催します

お弁当付きの現地対面参加のお申込み方法は参加者登録された方へご連絡します。

リモートでも参加可能です。

 

9月17日（火）　12:10 〜 12:50　 A会場 (対面 & オンライン)

株式会社フォトニックラティス、株式会社アントンパール・ジャパン　協賛

演題：「偏光イメージング(Rheo-PI)によるコロイド分散系の流動挙動の評価」

講演者：　佐藤 大祐様(1)、宮本 圭介様(2)（1株式会社フォトニックラティス、2株式会社アントンパール・ジャパン）

概要：　アントンパール・ジャパンとフォトニックラティスは共同で二次元偏光解析に基づく新しいレオ光学測定システム（Rheo-High-speed Polarization Imaging, Rheo-PI）を開発しました．レオメータに偏光ハイスピードカメラを導入することで，せん断流動下での乳化分散系のせん断誘起相転移や配向特性のリタデーション分布と配向軸分布をリアルタイムに測定することが可能となりました．テクニカルセミナーでは本装置の概要と原理，および測定事例を紹介します．

 

9月18日（水）　12:10 〜 12:50　 E会場 (対面 & オンライン)

株式会社　マジェリカ・ジャパン　協賛

講演者：　池田 純子　様

演題：「パルスNMRによるコロイド界面特性評価技術～ハンセン溶解度パラメーターを用いた数値化と最適な混合溶媒比の予測～」

概要：　ナノテクノロジー技術は着実に進歩し、そのフェーズはコロイドやナノ粒子をどのように利用し製品化につなげるかの利用技術に関する開発および実用化に焦点が移行している。特に濃厚系スラリーを対象とした分散、凝集状態の制御や構造制御技術などの技術開発が重要となっている。しかし、界面特性を簡便短時間で評価可能な手法は多くはない。パルスNMRとHSPパラメーターを用いて界面特性を客観的に数値化する手法などを紹介する。

 

9月19日（木）　12:10 〜 12:50　 E会場 (対面 & オンライン)　

ティー・エイ・インスツルメント・ジャパン株式会社　

協賛 演題「回転型レオメーターを用いた最新の粘弾性測定技術と分散系への応用」

講師　髙野 雅嘉　様　　

概要：食品，医薬品，化粧品，塗料など様々な産業で広く利用される分散系は，分散させる物質（分散質）とそれを包み込む物質（分散媒）の組み合わせから成り立ち，サスペンションやエマルション，フォームなどに分類される． 材料のプロセス特性や品質，安定性，パフォーマンスなどを左右する分散系のレオロジー特性を, 低粘度の液体から高弾性固体まで，1台でカバーできる回転型レオメーターの基礎から，分散系への応用まで紹介する．