講演情報

[A1433-3am-04]層状ケイ酸塩マガディアイトのSi–H末端オリゴジメチルシロキサンによる層間修飾と剥離

○水谷 環1、井戸 一智1、岩上 健1、宮本 佳明2、彌富 昌2、松野 敬成1,2、下嶋 敦1,2 (1. 早大先進理工、2. 早大材研)

キーワード:

シロキサン化合物、層状ケイ酸塩、層間修飾、剥離、ナノシート