[E1142-2pm] 口頭Ａ講演

15:00 〜 15:10日本語

[E1142-2pm-12] かさ高いアリール基を有するジチオシラカルボン酸二量体の合成と反応

○田﨑 秀悟¹、菅又 功²、笹森 貴裕² (1. 筑波大院数理、2. 筑波大数理物質・TREMS)

キーワード：

立体保護、ジチオシラカルボン酸、ケイ素、硫黄、ジチオシラエステル