日本化学会 第106春季年会 (2026)

座長，シンポジウム関係者：高谷 光 （帝京科学大学）、武守 佑典 （株式会社島津製作所）

本シンポジウムでは，革新的なGaN（窒化ガリウム）高周波半導体を活用したマイクロ波加熱技術の新展開に注目し、理論・基礎から合成化学・材料プロセス・環境応用に至るまで，産学を代表する研究者から学術と産業を横断する多様なアプローチを紹介頂きます。
マイクロ波加熱の理論解析，実生産における反応炉設計等，精密有機合成・触媒反応・材料合成まで，幅広い領域をカバーしつつ教科書・成書に書かれていない「マイクロ波加熱の勘所」について化学・マテリアル分野におけるマイクロ波による「未来のものづくり」におけるマイクロ波の役割と展望を提示することで，聴衆と共に次世代の省エネルギー・高効率プロセス技術としてのGaNマイクロ波加熱の可能性を探る機会とします。

本セッションは午前、午後、夕刻に実施されます。