講演情報
[19a-A202-5]化学気相蒸着法によるエピタキシャルTaS2薄膜の作製
〇柳瀬 隆1、江橋 美羽1、島田 敏宏2 (1.東邦大理化、2.北大応化)
キーワード：
遷移金属ダイカルコゲナイド,化学気相蒸着法,二硫化タンタル
独自開発した流路分離式化学気相蒸着装置を用い, TaCl5と硫黄を原料として2次元物質であるTaS2シートの合成を行った。得られた膜はエピタキシャルに成長しており, 三角ドメインが一方向に整列している。ドメインの大きさは約5µmであった。また, X線回折からもc軸配向を確認した。さらに, Ramanスペクトルから2H型のTaS2に対応する振動モードが観測されTaS2の合成に成功していると結論付けた。