講演情報
[19a-A301-1][講演奨励賞受賞記念講演] 加熱その場高分解能TEMによる薄膜Si固相エピタキシャル成長の原子スケールリアルタイム観察
〇手面 学1、浅野 孝典1、高石 理一郎1、富田 充裕1、齋藤 真澄1、田中 洋毅1 (1.キオクシア㈱)
キーワード：
多結晶Siチャネル,固相結晶化,その場電子顕微鏡法
多結晶Siチャネルを模した薄膜Si内で微結晶Siと結晶化していないアモルファス領域の局所的な界面において、Si原子面が一層ずつ形成される固相エピタキシャル(SPE)成長の素過程を原子スケールリアルタイム観察した。その結果、理想的(連続的)なSPE成長と不連続なSPE成長の存在を初めて区別できた。また、不連続なSPE成長を介し粒内欠陥が形成されることを見出し、そのメカニズムについて議論している。