[19p-A302-1~16] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

16:15 〜 16:30

[19p-A302-13] 還元雰囲気中スパッタによるSnO₂ターゲットからのSnO製作

〇(M1)小林 翔¹、川口 拓真¹、木菱 完太¹、相川 慎也¹ (1.工学院大)

キーワード：

還元条件,スパッタリング,SnO2ターゲット