講演情報
[19p-P01-28]大電力パルススパッタリング(HPPS)を用いたグラフェン堆積のプラズマ供給電圧依存性
〇大石 侑叶1、桒田 篤哉1、篠原 正典1、前田 文彦2、田中 諭志3、松本 貴士3 (1.福岡大工、2.福岡工業大、3.東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ)
キーワード：
グラフェン,大電力パルススパッタリング,ラマン
高密度プラズマ源として大電力パルススパッタリング(HPPS)を使用し、シリコン基板上に直接グラフェン堆積を行った。本研究ではプラズマ生成の重要なパラメータである供給電圧に注目し、膜の状態の違いを検討した。堆積させたグラフェンをラマン分光法で評価した結果、プラズマ供給電圧600Vから1000Vへ増加させると(ID/IG)が減少し、グラフェンの結晶性が向上すると考えられる。