講演情報
[19p-P01-50]機能性テープを用いたCVD-hBNとCVD-MoS2のヘテロ構造の作製と特性評価
〇黒木 麻衣1、深町 悟2、中谷 真季2、Zongpeng Ma1、本田 哲士3、保井 淳3、吾郷 浩樹1,2 (1.九大院総理工、2.九大GIC、3.日東電工)
キーワード：
MoS2,hBN,転写
複数のグラフェンや遷移金属ダイカルコゲナイド(TMD) 、六方晶窒化ホウ素（hBN）などからなる2.5次元物質は、優れた特性を示し、デバイスなどの応用が期待されている。CVD合成した二次元物質の積層には、PMMAを保護膜として用いたウェットプロセスによる転写法が一般的であるが、課題が多い。本研究では、二次元物質の転写に特化した機能性テープを用いてCVD合成した大面積の多層hBNと単層MoS2の積層構造を作製し、MoS2の光学特性について検討した。