講演情報
[20a-A301-2]ミニマルウエハ製造におけるウエハ洗浄後の乾燥装置
〇谷島 孝1、藤田 龍哉3、根本 一正2、居村 史人3、原 史朗1,2,3 (1.ミニマルファブ、2.産総研、3.ハンドレッドセミコン)
キーワード：
ミニマル
ミニマルウエハ製造における、ウエハ最終洗浄後の小型IPA直接乾ユニットを開発した。このユニットを使用し、ウエハを超純水浸漬した後乾燥を行った結果、ウエハ上にウォーターマークなどの欠陥が出ないことを確認した。今回開発した乾燥装置は、従来用いていた装置に比べ、専有面積が約1 /10、直接的な電気使用量ゼロ、冷却水が不要、窒素流量が1/6で、小径ウエハの少量生産に適したコンパクトな乾燥システムである。