セッション詳細

[20a-A301-1~11]13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2023年9月20日(水) 9:00 〜 12:00
A301 (熊本城ホール)
米谷 玲皇(東大)

[20a-A301-1]均一性の高い洗浄を可能にするスピンドロップレット洗浄技術の開発

〇根本 一正1、谷島 孝2、三浦 典子2、佐藤 和重2、原 史朗1,2,3 (1.産総研、2.ミニマルファブ、3.(株)Hundred Semiconductors)

[20a-A301-2]ミニマルウエハ製造におけるウエハ洗浄後の乾燥装置

〇谷島 孝1、藤田 龍哉3、根本 一正2、居村 史人3、原 史朗1,2,3 (1.ミニマルファブ、2.産総研、3.ハンドレッドセミコン)

[20a-A301-3]ミニマルTiN反応性スパッタ装置の成膜特性(4)

〇野田 周一1、薮田 勇気3、山本 直子3、亀井 龍一郎3、原 史朗1,2 (1.産総研、2.ミニマルファブ、3.誠南工業)

[20a-A301-4]ミニマルファブでのプラズマダメージ評価

〇加瀬 雅1、原 史朗1,2,3 (1.産総研、2.ミニマル、3.Hundred Semiconductors)

[20a-A301-5]テーパー形状のTSVホールにおける水素アニール効果の研究

〇田中 宏幸1、徳永 博司2、野沢 善幸3、速水 利泰3、佐藤 和重4,5、原 史朗1,5 (1.産総研、2.MTC、3.SPPテクノロジーズ、4.坂口電熱、5.ミニマル推進機構)

[20a-A301-6]300~600℃の低温処理用ミニマルレーザ加熱装置の開発(Ⅱ)

〇佐藤 和重1,2、千葉 貴史1,2、寺田 昌男1,2、濱田 健吾1,2、原 史朗1,3 (1.ミニマルファブ推進機構、2.坂口電熱、3.産総研)

[20a-A301-7]ミニマルファブにおけるウェハ面内ばらつきの評価

〇本郷 仁啓1、原 史朗1,2,3 (1.ミニマル、2.産総研、3.Hundred Semiconductors)

[20a-A301-8]ミニマルファブにおける各種リソースのスケールダウン効果の評価

〇藤田 龍哉1、谷島 孝2、根本 一正3、居村 史人1、原 史朗1,2,3 (1.㈱Hundred Semiconductors、2.ミニマルファブ推進機構、3.産総研)

[20a-A301-9]ミニマルファブを用いたオペアンプチップの先端パッケージング

〇居村 史人1,2、松田 誠宙3、若杉 雄彦3、土屋 忠明3、大河 亮4、秋田 純一4、北山 侑司5、池田 伸一2、原 史朗1,2,6 (1.Hundred Semiconductors、2.産総研、3.ロジック・リサーチ、4.金沢大学、5.横河ソリューションサービス、6.ミニマルファブ推進機構)

[20a-A301-10]Ring Oscillator発振周波数のオーバーラップ容量依存性を考慮したミニマルファブSPICEモデル構築

〇浜本 毅司1、原 史朗1,2,3 (1.ミニマルファブ推進機構、2.産総研、3.(株)Hundred Semiconductors)

[20a-A301-11]ミニマルファブで作製した加速度センサの良品率評価

〇小粥 敬成1、田中 宏幸2、居村 史人3、谷島 孝1、原 史朗1,2,3 (1.ミニマルファブ、2.産総研、3.Hundred)