[20a-A301-1~11] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術 | 2023年第84回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)13 半導体：13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[20a-A301-1~11]13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2023年9月20日(水) 9:00 〜 12:00

A301 (熊本城ホール)

米谷玲皇(東大)

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9:00 〜 9:15

[20a-A301-1]均一性の高い洗浄を可能にするスピンドロップレット洗浄技術の開発

〇根本一正¹、谷島孝²、三浦典子²、佐藤和重²、原史朗^1,2,3 (1.産総研、2.ミニマルファブ、3.(株)Hundred Semiconductors)

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9:15 〜 9:30

[20a-A301-2]ミニマルウエハ製造におけるウエハ洗浄後の乾燥装置

〇谷島孝¹、藤田龍哉³、根本一正²、居村史人³、原史朗^1,2,3 (1.ミニマルファブ、2.産総研、3.ハンドレッドセミコン)

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9:30 〜 9:45

[20a-A301-3]ミニマルTiN反応性スパッタ装置の成膜特性（4）

〇野田周一¹、薮田勇気³、山本直子³、亀井龍一郎³、原史朗^1,2 (1.産総研、2.ミニマルファブ、3.誠南工業)

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9:45 〜 10:00

[20a-A301-4]ミニマルファブでのプラズマダメージ評価

〇加瀬雅¹、原史朗^1,2,3 (1.産総研、2.ミニマル、3.Hundred Semiconductors)

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10:00 〜 10:15

[20a-A301-5]テーパー形状のTSVホールにおける水素アニール効果の研究

〇田中宏幸¹、徳永博司²、野沢善幸³、速水利泰³、佐藤和重^4,5、原史朗^1,5 (1.産総研、2.MTC、3.SPPテクノロジーズ、4.坂口電熱、5.ミニマル推進機構)

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10:30 〜 10:45

[20a-A301-6]300～600℃の低温処理用ミニマルレーザ加熱装置の開発(Ⅱ)

〇佐藤和重^1,2、千葉貴史^1,2、寺田昌男^1,2、濱田健吾^1,2、原史朗^1,3 (1.ミニマルファブ推進機構、2.坂口電熱、3.産総研)

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10:45 〜 11:00

[20a-A301-7]ミニマルファブにおけるウェハ面内ばらつきの評価

〇本郷仁啓¹、原史朗^1,2,3 (1.ミニマル、2.産総研、3.Hundred Semiconductors)

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11:00 〜 11:15

[20a-A301-8]ミニマルファブにおける各種リソースのスケールダウン効果の評価

〇藤田龍哉¹、谷島孝²、根本一正³、居村史人¹、原史朗^1,2,3 (1.㈱Hundred Semiconductors、2.ミニマルファブ推進機構、3.産総研)

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11:15 〜 11:30

[20a-A301-9]ミニマルファブを用いたオペアンプチップの先端パッケージング

〇居村史人^1,2、松田誠宙³、若杉雄彦³、土屋忠明³、大河亮⁴、秋田純一⁴、北山侑司⁵、池田伸一²、原史朗^1,2,6 (1.Hundred Semiconductors、2.産総研、3.ロジック・リサーチ、4.金沢大学、5.横河ソリューションサービス、6.ミニマルファブ推進機構)

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11:30 〜 11:45

[20a-A301-10]Ring Oscillator発振周波数のオーバーラップ容量依存性を考慮したミニマルファブSPICEモデル構築

〇浜本毅司¹、原史朗^1,2,3 (1.ミニマルファブ推進機構、2.産総研、3.(株)Hundred Semiconductors)

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11:45 〜 12:00

[20a-A301-11]ミニマルファブで作製した加速度センサの良品率評価

〇小粥敬成¹、田中宏幸²、居村史人³、谷島孝¹、原史朗^1,2,3 (1.ミニマルファブ、2.産総研、3.Hundred)

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