講演情報
[20a-A301-3]ミニマルTiN反応性スパッタ装置の成膜特性（4）
〇野田 周一1、薮田 勇気3、山本 直子3、亀井 龍一郎3、原 史朗1,2 (1.産総研、2.ミニマルファブ、3.誠南工業)
キーワード：
ミニマルファブ,TiN,反応性スパッタ
TiNメタルゲート用ミニマル反応性スパッタ装置を改良してより高い真空度が維持できる新規装置を開発して現行機と特性比較を行った。分光エリプソメトリによる誘電関数から決定される遮蔽プラズマ周波数（E'p）を利用した評価を行により、ターゲット―サンプル間距離やスパッタパワーの違いに起因する膜質の違いが推定できた。これらの結果をもとにさらに装置およびプロセスの改良を進める。