[20a-A401-1~2] 8.8 プラズマエレクトロニクス賞受賞記念講演

9:45 〜 10:15

[20a-A401-1] [第21回プラズマエレクトロニクス賞受賞記念講演] 高周波電極へ入射する高エネルギー粒子角度分布のイメージング計測

〇豊田 浩孝¹、市川 景太¹、チュ マンフン¹、森山 誠¹、鈴木 陽香¹、飯野 大輝²、福水 裕之²、栗原 一彰² (1.名大工、2.キオクシア（株）)

キーワード：

角度分布,エッチング,高エネルギー粒子

プラズマから基板へ入射する高エネルギー粒子の入射角度分布はエッチング精度を決める重要なパラメータのひとつである。我々は高周波電極にオリフィスを設け、これを通過した粒子拡がりをマイクロチャネルプレート(MCP)によりイメージング計測することで高エネルギーイオンおよび中性粒子の入射角度分布を精度よく測定する装置を開発し、単周波および二周波容量結合型プラズマにおける入射角度分布を計測した。