[20a-A501-1~8] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術

9:00 〜 9:15

[20a-A501-1] 放物面鏡立体投影露光のフィールド歪とパターン形成への影響

〇堀内 敏行¹、岩崎 順哉¹、小林 宏史¹ (1.東京電機大学)

キーワード：

立体面投影露光,放物面鏡,フィールド歪

回転放物面鏡を用いて立体面上の原図パターンを同じ形状の被露光立体面上に一括投影露光するリソグラフィにおいて、パターンの鮮明度向上と形成範囲拡大のため、波長405nmのLEDコリメート光源による片側からの照明を採用している。その際生じるフィールド歪の特徴を実験と光線追跡により把握し、パターン形成との関係を検討した。現状の歪を大略把握できたが、パターン線幅に歪を反映した分布が出るので要注意である。