セッション詳細

[20a-A501-1~8]7.3 微細パターン・微細構造形成技術

2023年9月20日(水) 9:00 〜 11:15
A501 (熊本城ホール)
山本 治朗(日立)、 谷口 淳(東理大)

[20a-A501-1]放物面鏡立体投影露光のフィールド歪とパターン形成への影響

〇堀内 敏行1、岩崎 順哉1、小林 宏史1 (1.東京電機大学)

[20a-A501-3]イオン液体が捕獲されたシリコーンマイクロカップアレイ構造の形成

〇大越 昌幸1、岩崎 楓1 (1.防衛大電気電子)

[20a-A501-4]重畳を伴うイオン照射における照射回数とSiC表面構造形態との関係性

〇芦浦 憲一郎1、大石 脩人1、新田 紀子1 (1.高知工大)

[20a-A501-5]電子線リソグラフィにおけるネガ型レジストの現像初期過程の分子動力学解析

〇(M1)田中 琉暉1、山田 絵斗1、安田 雅昭1 (1.阪公大工)

[20a-A501-6]銀インクを用いた大気下における残膜レスパターン形成

〇中村 有理1、谷口 淳1 (1.東理大先進工)

[20a-A501-7]熱ナノインプリントによるPLAシート表面のナノ周期パターン形成

〇梅本 琉花1、北村 裕大1、金子 智2,1、吉本 護1、松田 晃史1 (1.東工大 物質理工、2.神奈川産技総研)

[20a-A501-8]橋掛け構造を利用したステンシルマスクの作成方法

〇田村 響生1、村上 湧祐1、谷口 淳1 (1.東理大先進工)