講演情報
[20a-A501-2]フォトリソグラフィと電子線リソグラフィのメタルレジストのリソグラフィ特性のおける基礎研究
〇山本 洋揮1、古澤 孝弘2 (1.量研高崎、2.阪大産研)
キーワード：
メタルレジスト,フォトリソグラフィ,溶解挙動
現在、極端紫外光（EUV） リソグラフィが実用化されたが、量産ラインにおいて化学増幅型レジストが使用されている。しかしながら、10nm未満のパターン加工では、化学増幅型レジストの限界が唱えられはじめ、メタルレジストなどといった革新的な材料の研究・開発が進められている。本研究では、メタルレジストを合成し、フォトリソグラフィと電子線リソグラフィによるメタルレジストの性能評価を行い、メタルレジストが有望であることが明らかになった。