講演情報
[20a-A501-6]銀インクを用いた大気下における残膜レスパターン形成
〇中村 有理1、谷口 淳1 (1.東理大先進工)
キーワード：
ナノインプリント,残膜レス,銀インク
ナノインプリントリソグラフィの際に，転写パターン底部に残膜層という不要な樹脂層が生じる．残膜除去として反応性イオンエッチング，残膜発生阻止として凸の突起部分に紫外線遮光物質を真空蒸着する方法が提唱されているが，真空プロセスを経るため時間がかかる．本実験では，大気中で紫外線遮光物質を接着させ残膜レスのパターン形成を試みた．本手法はスループットの改善が期待でき，残膜除去の不均一性の考慮が不要である．