講演情報
[20a-A501-8]橋掛け構造を利用したステンシルマスクの作成方法
〇田村 響生1、村上 湧祐1、谷口 淳1 (1.東理大先進工)
キーワード：
ナノインプリントリソグラフィ,フォトマスク,橋掛け構造
半導体プロセスで用いられるフォトマスクについて, さらなる微細化のため, 1μm以下のフォトマスク求められていると考え, 様々な方法を試みた. 本論文では, 橋掛け構造をステンシルマスクのストラットにすること考案した. その上にポジ型のPMMAレジストを塗布する方法を試みた結果を示す.