講演情報
[20p-A202-1]半導体基板洗浄装置の歴史とイノベーション
〇荒木 浩之1 (1.SCREEN)
キーワード：
半導体洗浄装置,歴史,イノベーション
1980年代後半から90年代にかけて、利用されるシリコンの基板サイズは6インチから8インチ、そして300㎜にシフトしてきた。その過程でバッチ式の基板洗浄方法も４つ大きく変化した。これらの方法は現在でも使われており、新たなデファクトスタンダードと呼ばれる方法は生まれていない。90年代の変化はどのようにして生み出されたのか、主にバッチ式洗浄装置について歴史を振り返り、今後へのメッセージとしたい。