2023年第84回応用物理学会秋季学術講演会
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シンポジウム(口頭講演)シンポジウム：界面ナノ電子化学：深化する半導体ウェットプロセス

[20p-A202-1~11]界面ナノ電子化学：深化する半導体ウェットプロセス

2023年9月20日(水) 13:00 〜 17:00
A202 (熊本城ホール)
真田 俊之(静大)、 吉水 康人(東芝メモリ)
シンポジウムスポンサー

13:00 〜 13:30

[20p-A202-1]半導体基板洗浄装置の歴史とイノベーション

〇荒木 浩之1 (1.SCREEN)
13:30 〜 14:00

[20p-A202-2]半導体枚葉式洗浄装置の開発について

〇菅野 至1 (1.東京エレクトロン九州)
14:00 〜 14:15

[20p-A202-3]枚葉式フッ硝酸Siエッチングにおける表面挙動の解析

〇西尾 賢哉1、平野 智暉1、大井上 昂志1、齋藤 卓1、萩本 賢哉1、岩元 勇人1 (1.ソニーセミコンダクタソリューションズ)
14:15 〜 14:30

[20p-A202-4]OpenFOAMを用いたエッチングを伴う回転円盤上での液膜流れの数値計算

〇神保 佳典1、佐藤 雅伸2、真田 俊之1 (1.静大工、2.(株)SCREENｾﾐｺﾝﾀﾞｸﾀｰｿﾘｭｰｼｮﾝｽﾞ)
14:30 〜 14:45

[20p-A202-5]エッチングの理論解析 -第一原理計算と機械学習ポテンシャル計算-

〇稲垣 耕司1、有馬 健太1 (1.阪大院工)
14:45 〜 15:00

[20p-A202-6]CMOS互換プロセスで作製されたナノ共振器シリコンラマンレーザの
吸収損失除去

〇高橋 和1、下村 悠1、岡野 誠2 (1.大阪公大、2.産総研)
15:15 〜 15:45

[20p-A202-7]半導体洗浄技術30年の歩みと今後の展望

〇冨田 寛1 (1.キオクシア)
15:45 〜 16:15

[20p-A202-8]バッチ式ウエハ洗浄装置内水流解析と設計の視点

〇羽深 等1 (1.横国大院理工)
16:15 〜 16:30奨励賞エントリー

[20p-A202-9]PVAブラシの変形に伴う液体流出及び流入挙動の観察

〇鈴木 翔大1、水嶋 祐基1、濱田 聡美2、小篠 諒太2、真田 俊之1 (1.静大工、2.荏原製作所)
16:30 〜 16:45

[20p-A202-10]誘導帯電素子を用いた二流体スプレー時の発生電荷量の制御

〇清家 善之1、鈴木 洋陽1、一野 祐亮1、田岡 紀之1、森 竜雄1 (1.愛知工大)
16:45 〜 17:00

[20p-A202-11]界面ナノ電子化学研究会 吸着ワーキンググループ活動報告

〇吉水 康人1 (1.キアクシア(株))
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