講演情報
[20p-A202-10]誘導帯電素子を用いた二流体スプレー時の発生電荷量の制御
〇清家 善之1、鈴木 洋陽1、一野 祐亮1、田岡 紀之1、森 竜雄1 (1.愛知工大)
キーワード：
半導体,洗浄,静電気障害
流体スプレーでの洗浄は，ウェハ上の素子を電気的に破損してしまう静電気障害 が生じる問題がある．本報告では、二流体スプレー時に発生する電流を測定し、液滴の帯電は正極性を示し，飛行液滴の速度が速いほど増加することを確認した．また静電気障害を減らすことを目的に，純水の噴射直後に誘導帯電素子を設置し，強電界中にスプレーすることによって，純水液滴の帯電量を制御できることを確認した．