講演情報
[20p-A309-9]コンビナトリアルスパッタ法を用いて作製したSi基板上(100)BiFeO3エピタキシャル薄膜の結晶構造解析
〇高木 昂平1、Aphayvong Sengsavang1、藤村 紀文1、吉村 武1 (1.阪公大院工)
キーワード:
強誘電体薄膜,エピタキシャル膜,BiFeO3
IoT社会の実現に向け、センサーノードの数は飛躍的に増加しており、それらに電力を供給する技術として環境発電が注目を集めている。我々は、圧電MEMS振動発電素子(MEMS-pVEH)の開発を進めており、圧電材料には巨大な自発分極を持つ非鉛強誘電体であるBiFeO3に着目している。本発表では、LaNiO3シード層を用いて単相成長させた(100)BiFeO3エピタキシャル薄膜を作製し、Bi供給量と成長温度が結晶構造に与える影響を調べた。